甜瓜保护地栽培的种植方式

1、直立栽培：主蔓沿架条或吊绳垂直向上引缚，一般采用畦宽为1米的高畦双行定植，畦间距0.5米，畦上行距0.4~0.6米，畦间行距0.9~1.0米，株距0.4米，每亩保苗2000株左右。结果部位在主蔓8~12节前后的子蔓上最好，每株1~2果，主蔓24~30节处摘心。

2、半直立栽培：在甜瓜生育初期同爬地栽培一样引蔓爬行，达到预定节位后再沿架条或吊绳直立引缚。半直立栽培综合了爬地裁培和直立栽培的优点，适于较低的温室、大棚的边沿部位栽培。果用半直立栽培时，生育初期保护地近地面温度高，小气候条件好；生育后期保护地内气温已普遍提高，此时植株已直立上架，可改善通风环境。

半直立栽培整枝方式有两种：

①单蔓整枝。是将主蔓沿地表爬行，到达预定的位置再起立上架。如单坡温室的南边较低，田间作业不便，采用直立单干整枝栽培，先将苗定植在温室低处的边行上，植株伸蔓后引其向北爬行一段再上架，这样田间作业就方便了。也有采用先直立引缚达一定高度后再水平爬行，结果部位与留果数同直立栽培。

②双蔓整枝。是在主蔓3~4片叶时摘心，选取留2条健壮子蔓向行的两侧引导爬行，到达预定位置后再垂直引缚，结果部位在子蔓8~10节的孙蔓第1节，留果每株2~4个。这种方法的优点是，植株根系的分布是一行，而枝蔓所占的空间是两行，减少了甜瓜根系在土壤中的分布范围，为下年倒茬留有余地。有些保护地里作物倒茬困难，甜瓜又不适于连作，采用上述方法可以使定植行逐年错开，可在同一地里连续多年种植甜瓜。

3、爬地栽培：适于地膜覆盖、小拱棚和温室、大棚内的甜瓜省工或大果形的厚皮甜瓜栽培。